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滑動軸承減摩層的電鍍新工藝(4)

來源:軸承網 時間:2017-10-13

  5 實驗進程
  用L9(34)正交實驗法斷定鍍液中[Pb2+]、游離[HBF4]、游離[H3BO3]及工藝參數DK的最佳值.
  5。1 實驗條件
  陽極組成:PbSn10,
  溫度:20~25℃,
  電源:三相全波硅整流器,
  試片幾許尺度:100×50×4,
  試片面料(即被鍍基體)的組成:CuPb22Sn2,
  試片面料的外表粗糙度:Ra0。4.
  固定成分含量.
  Sn 2+:15g/ι,Cu:5g/ι,穩定劑:5g/ι,添加劑:2g/ι,
  表1 列號、因子對照表
  --------------------------------------------------------
  L9(3< 1 2 3 5
  sup>4)列號
  --------------------------------------------------------
  因子 A B C D
  --------------------------------------------------------
  表2 因子、水平表
  -------------------------------------------------------------
  水平/數 游離氟硼 鉛離子 游離硼酸 陰極電流
  據/因子 酸[HBF [H3 密度(DK)
   ub>4] BO
   3   sub>]
   A B C D
  -------------------------------------------------------------
  1 75g/ι 250g/ι 25g/ι 4A/dm2
  2 150g/ι 150g/ι 35g/ι 3A/dm2
  3 300g/ι 80g/ι 15g/ι 2A/dm2
  -------------------------------------------------------------
  5。2 因子及其水平
  游離氟硼酸(HBF4)的濃度(A):A1=70g/ι,A2=150g/ι,A3=300g/ι.
  鉛離子(Pb2+)的濃度(B):B1=250g/ι,B2=150g/ι,B3=80g/ι.
  游離硼酸(H3BO3)的濃度(C):C1=25G/ι,C2=35g/ι,C3=15g/ι.
  陽極電淳密度(DK)(D):D1=4A/dm2,D2=3A/dm2,D3=2A/dm2.
  5。3 實驗進程及其成果評估
  在細心、細心地預備之后;按正交實驗計劃(見表3)精心組織九次實驗;對實驗成果進行了評估.
  表3 正交實驗計劃及其成果剖析表L9(34)
  -------------------------------------------------------------
  實驗號/水 1 2 3 4 實驗成果評分
  平/列號
  -------------------------------------------------------------
  1 1 1 1 1 100
  2 1 2 2 2 100
  3 1 3 3 3 95
  4 2 1 2 3 80
  5 2 2 3 1 65
  6 2 3 1 2 70
  7 3 1 3 2 45
  8 3 2 1 3 50
  9 3 3 2 1 30
  -------------------------------------------------------------
  K1 295 225 220 195
  K2 215 215 210 215
  K3 125 195 205 225
  R 56。6 10。0 5。0 10。0
  -------------------------------------------------------------
  在表3中;K1分別為各列中第1 水平得分的總和,K2分別為各列中第2水平得分的總和,K3分別為各列中第3水平得分的總和.
  R=(Kmax  Kmin)/3.
  四個因子對軸瓦減摩鍍層質量影響的巨細次序是A>B=D>C.即游離氟硼酸的濃度影響最大;鉛離子的濃度及陰極電流密度的影響次之;游離硼酸的濃度影響最小.
  如今剖析各因子中的每一水平對軸瓦減摩鍍層質量的影響狀況.
  在A中:K1>K2>K3;第1水平最棒.
  在B中:K1>K2>K3;第1水平最棒.
  在C中:K1>K2>K3;第1水平最棒.
  在D中:K3>K2>K1;第3水平最棒.
  經過上述剖析;得出最佳組合條件為A1B1C1D3.即由正交實驗法得出的最佳電鍍條件為
  HBF4(游離): 70g/ι,
  Pb2+: 250g/ι,
  H3BO3(游離): 25g/ι,
  DK: 2A/dm2.
  在實踐出產中;思考到槽液的導電性及帶出丟失等要素;把游離氟硼酸的濃度及鉛離子的濃度進行恰當調整;前者恰當調高;后者恰當調低.從表3還能夠看出;DK在2~3A/dm2的規模之內時;鍍層質量不同不大;思考到出產進展;因而將它斷定在適合的規模之內.當氣溫降低時;游離硼酸易分出結晶;因而將其濃度思考得略低些.
  經充沛權衡多方面的要素;把軸瓦電鍍三元合金減摩層的工藝進行了如下改善.
  Pb2+(以Pb(BF4)2的方式參加):150~200g/ι,
  Sn2+(以Sn(BF4)2的方式參加):10~20g/ι,
  Cu2+(以Cu(BF4)2的方式參加):3~6g/ι,
  HBF4(游離):70~120g/ι,
  H3BO3(游離):20~25g/ι,
  穩定劑:3~10g/ι,
  添加劑:0。5~5g/ι,
  溫度(T):15~35℃,
  陰極電流密度(DK):2~2。8A/dm2,
  時刻(t):15~35min,
  鍍層厚度(δ):15~30μm,
  陽極組成:PbSn9~11,
  陽極面積與陰極面積之比:2.
  6 作用
  改善后的工藝閱歷了多年的出產運轉檢測.其成果是鍍層結晶細密、潤滑;消除了氣流條紋、針孔、凹坑、結瘤、粗糙等缺點.軸瓦產物的廢話品丟失率由本來的0。5%左右降低到如今的0。1%以下,一次交檢合格品率由本來的90%左右上升到如今的99%以上.可見軸瓦電鍍產物質量有了明顯進步.
  曾經;每個陽極方位只能電鍍一副軸瓦;DK開中、下限還時有鍍層粗糙、條紋等缺點發作.改善工藝后;每個陽極方位可電鍍2~4副軸瓦;陰極電流密度比本來進步近50%;而且鍍層結晶仍很細密.改善后的工藝進步工效2~4倍.
  我廠軸瓦定貨量逐年上升;產值逐年增高;當前年產值已達一千多萬元.近十年來發生直接經濟效益數千萬元.一起還為主機廠更新換代的主機及進口主機的國產化供給了適當數量的高質量的軸瓦配件.這些年;我廠有些軸瓦產物已打入世界市.哂幸歡ㄊ康某隹.這一切都與軸瓦電鍍質量的進步有著直接的聯系.

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